나노임프린팅 기술에서요...
substrate와 mold의 평행유지 방법에 대해서요...
기존 나노 임프린팅 기술에서의 스탬프를 누르는 과정에서 매우 균일한 압력이 가해지지 않을 경우 기판이 잘 손상된다는 단점을 보완하기 위해
몰드와 서브스트레이트의 평행을 유지하는 방법에 대하여 질소가스를 주입하는 방법을 생각해보았는데요... 질소가스주입방법의 단점으로는 어떤게 있을까요? 자료를 찾다 찾다 결국 못찾아서 여기까지 왔네요ㅜ.ㅜ
알고 계신대로 답변좀 해주시면 대단히 감사 하겠습니다.
죄송합니다. ^^!
제가 맥가이버가 아닌 관계루다가...