나노 임프린트 기술에서 mold와 substrate의 평행을 유지하는 방법에 대해서 생각을 하다가 질소가스를 주입하는 방법을 생각했습니다.
기존 나노 임프린팅 기술에서의 스탬프를 누르는 과정에서 매우 균일한 압력 이 가해지지 않을 경우 기판이 잘 손상된다는 단점을 보완하기 위해 질소가스를 주입하는 방법을 생각했는데요, 질소가스주입법은 정밀도가 상승하고 저가격화와 공정의 단순화등 장점이 많을것 같은데요, 단점은 잘 모르겠습니다. 질소가스 주입방법에 대한 문제점과 향후 개선책에 대한 의견을 말씀해 주시면 감사하겠습니다.